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Intel推出功耗降低90%的晶體管材料

發(fā)布時間:2009-04-08

產(chǎn)品特性:
  • 晶體管能夠?qū)⑻幚砥鞯墓慕档椭廉?dāng)前處理器產(chǎn)品的10%
  • 新晶體管基于的是硅基,使用了一種名為III-V的化合物半導(dǎo)體
  • 工作核心電壓將只有當(dāng)前處理器的50%,功耗只有當(dāng)前晶體管的10%
應(yīng)用范圍:
  • 處理器
  • 顯卡以及其他高集成度設(shè)備

據(jù)報道, Intel公司新推出一種名為“P-channel”和“N-channel”的晶體管能夠?qū)⑻幚砥鞯墓慕档椭廉?dāng)前處理器產(chǎn)品的10%。Intel公司于日前公布了新材料“P-channel”晶體管的更多細(xì)節(jié),新晶體管基于的是硅基,使用了一種名為III-V的化合物半導(dǎo)體。大約在一年之前Intel公司就對外描述過基于III-V 材料的“P-channel”晶體管,當(dāng)時同樣基于的是硅基。

根據(jù)Intel公司的介紹當(dāng)同時使用N-channel 和P-channel 兩種材料之后就可以制造 CMOS電路塊。并且擁有制造未來處理器產(chǎn)品的潛力。值得一提的就是基于新材料的處理器功耗將非常低,工作核心電壓將只有當(dāng)前處理器的50%,功耗只有當(dāng)前晶體管的10%。

如果這項創(chuàng)新能夠在處理器產(chǎn)品上得到應(yīng)用,那么這將會為我們帶來體積更小、功耗更低、性能更加強大的處理器。很顯然的是新材料將來還可以應(yīng)用在顯卡以及其他高集成度設(shè)備上。

目前,Intel公司正在著力研究新材料的實用化。

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